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FIB-SEM三束系統(tǒng) NX2000

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品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地深圳市

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更新時間:2025-01-10 13:24:37瀏覽次數(shù):56次

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產(chǎn)品簡介

追求的TEM樣品制備工具在設(shè)備及高性能納米材料的評價和分析領(lǐng)域,F(xiàn)IB-SEM已成為的工具。近來,目標觀察物更趨微細化;更薄,更低損傷樣品的制備需求更進一步凸顯。日立高新公司,整合了高性能FIB技術(shù)和高分辨SEM技術(shù),再加上加工方向控制技術(shù)以及Triple Beam®*1(選配)技術(shù),推出了新一代產(chǎn)品NX2000運用高對比度,實時SEM觀察和加工終點檢測功能,可制備厚度小于20 nm的超薄樣品加工方向控制技術(shù)(Micro-sampling®...

詳細介紹

概述
產(chǎn)品參數(shù)

追求的TEM樣品制備工具


在設(shè)備及高性能納米材料的評價和分析領(lǐng)域,F(xiàn)IB-SEM已成為的工具。
近來,目標觀察物更趨微細化;更薄,更低損傷樣品的制備需求更進一步凸顯。
日立高新公司,整合了高性能FIB技術(shù)和高分辨SEM技術(shù),再加上加工方向控制技術(shù)以及Triple Beam®*1(選配)技術(shù),推出了新一代產(chǎn)品NX2000


  • 運用高對比度,實時SEM觀察和加工終點檢測功能,可制備厚度小于20 nm的超薄樣品

  • 加工方向控制技術(shù)(Micro-sampling®*3系統(tǒng)(選配)+高精度/高速樣品臺)對于抑制窗簾效應(yīng)的產(chǎn)生,以及制作厚度均一的薄膜類樣品給予厚望。

  • Triple Beam®*1(選配)可提高加工效率,并能使消除FIB損傷自動化


產(chǎn)品參數(shù)
項目內(nèi)容
FIB鏡筒
分辨率4 nm @ 30 kV、60 nm @ 2 kV
加速電壓0.5~30 kV
束流0.05 pA ~ 100 nA
FE-SEM鏡筒
分辨率2.8 nm @ 5 kV、3.5 nm @ 1 kV
加速電壓0.5~30 kV
電子槍冷場場發(fā)射型
探測器
標準検出器In-lens 二次電子探測器/樣品室二次電子探測器/背散射電子探測器
樣品臺X:0 ~ 205 mm
Y:0 ~ 205 mm
Z:0 ~ 10 mm
R:0 ~ 360°連續(xù)
T:-5 ~ 60°


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