深圳市賽麥吉圖像技術有限公司
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TE173專門用于測量走樣?;殳B效應是兩個位圖的波紋扭曲造成的干擾。
TE173專門用于測量走樣?;殳B效應是兩個位圖的波紋扭曲造成的干擾。獨立于類型的相機混疊效應會產生干擾的動機如位圖和電視行結構。的百葉簾效果或紡織品條紋圖案。
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